Lithographie en immersion

La lithographie en immersion est une technique de gravure de plaques de microprocesseurs informatiques, dans un bain aqueux clair, inventé au sein de la société TSMC.

Ce procédé assure une meilleure fiabilité de la gravure, et donc un taux de déchets moins élevé[1].

Notes et références
  1. Course aux nanomètres > Lithographie par immersion, sur journaldunet.com, consulté le 27 septembre 2018
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