Tuomo Suntola

Tuomo Suntola (né en 1943 à Tampere) est un physicien, inventeur et un leader technologique finlandais, connu pour ses recherches pionnières en science des matériaux, développant la technique de croissance à couche mince appelée Atomic Layer Deposition[2],[3].

Tuomo Suntola
Tuomo Suntola pendant son discours d'ouverture de la conférence internationale ALD de la Baltique
le à Helsinki[1].
Biographie
Naissance
Nationalité
Formation
Activités
Autres informations
Membre de
Finnish Academy of of Technical Sciences (d) ()
Position
Site web
Distinctions

Biographie

En 1971, Tuomo Suntola soutient sa thèse de PhD en physique des semi-conducteurs à l'université technologique d'Helsinki. Après son PhD, Tuomo Suntola réalise son premier développement industriel au centre de recherche technique de Finlande, un capteur d'humidité à couche mince "Humicap" pour Vaisala Oy.

En 1974, Tuomo Suntola lance le développement d’écrans électroluminescents en couches minces au sein de la société finlandaise Instrumentarium oy. Il introduit la technologie atomic layer epitaxy (ALE), connue de nos jours sous le nom de atomic layer deposition (ALD), comme solution pour la fabrication des dispositifs électroluminescents nécessitant des films minces à très haute capacité diélectrique[4]. La technologie sera introduite dans la production industrielle de dispositifs électroluminescents au milieu des années 1980 par Lohja Corporation en Finlande[3]. L'ALD deviendra par la suite une des techniques de fabrication clés pour la fabrication de dispositifs à semi-conducteurs.

En 1987, Suntola crée Microchemistry Ltd, une filiale de la société pétrolière nationale Neste Oy, pour appliquer la technologie ALD à de nouveaux domaines d'application, tels que les dispositifs photovoltaïques à couche mince, les catalyseurs hétérogènes et les dispositifs à semi-conducteurs. En 1998, Microchemistry Ltd. et la technologie ALD sont vendus à ASM International, un fournisseur majeur d’équipements de fabrication de semi-conducteurs.

Le , Tuomo Suntola recoit le Prix Millennium Technology d'un montant de 1 million d'euros. Sa technologie est utilisée pour fabriquer des couches de matériaux ultra-minces pour une variété de dispositifs tels que les ordinateurs, smartphones, microprocesseurs et mémoires, permettant des performances élevées dans les petites tailles[5].

Reconnaissance

Publications
  • T. Suntola, "On the Mechanism of Switching Effects in Chalcogenide Thin Films", Solid-State Electronics 1971, Vol. 14, pp. 933–938
  • T. Suntola, "Atomic Layer Epitaxy", Tech. Digest of ICVGE-5, San Diego, 1981
  • T. Suntola, J. Hyvärinen, "Atomic Layer Epitaxy", Annu. Rev. Mater. Sci. 15 (1985) 177
  • T. Suntola, "Atomic Layer Epitaxy", Materials Science Reports, Volume 4, number 7, December 1989, 0920-2307/89, Elsevier Science Publishers B.V.
  • T.Suntola, "CdTe Thin-Film Solar Cells", MRS Bulletin, Vol. XVIII, No. 10, 1993
  • T. Suntola, "Atomic Layer Epitaxy", Handbook of Crystal Growth 3, Thin Films and Epitaxy, Part B: Growth Mechanisms and Dynamics, Chapter 14, Elsevier Science Publishers B.V., 1994.
  • Tuomo Suntola, The Short History of Science - or the long path to the union of metaphysics and empiricism, (ISBN 978-952-68101-0-2)
  • R. L. Puurunen, H. Kattelus, T. Suntola, "Atomic layer deposition in MEMS technology", Ch. 26 of Handbook of Silicon Based MEMS Materials and Technologies, Ed. V. Lindroos et al. , pp. 433–446, Elsevier, 2010.
  • Tuomo Suntola, The Dynamic Universe, Third edition, April 2011, (ISBN 9781461027034).

Références
  1. (en) « Baltic ALD 2014 », Université de Helsinki (consulté le )
  2. (en) Steven M. George, Atomic Layer Deposition : An Overview, Chem. Rev, 12.2009) (DOI doi:10.1021/cr900056b, lire en ligne), chap. 110, p. 111–131
  3. (en) Riikka Puurunen L., A Short History of Atomic Layer Deposition : Tuomo Suntola's Atomic Layer Epitaxy, Chemical Vapor Deposition, (ISSN 1521-3862, DOI doi:10.1002/cvde.201402012, lire en ligne), chap. 20, p. 332–344
  4. (en) Esko Ahvenniemi, Andrew R. Akbashev, Saima Ali, Mikhael Bechelany, Maria Berdova, Stefan Boyadjiev, David C. Cameron, Rong Chen, Mikhail Chubarov, « Review Article: Recommended reading list of early publications on atomic layer deposition—Outcome of the "Virtual Project on the History of ALD" », Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, vol. 35, no 1,‎ , p. 010801 (ISSN 0734-2101, DOI 10.1116/1.4971389)
  5. (en) « "Tech 'Nobel' awarded to Finnish physicist for small smart devices" », Phys.org, (consulté le )
  6. (fi) « Suomalaismies kehitti jo 70-luvulla älypuhelimet mahdollistavan teknologian, mutta maailma ei ollut siihen vielä valmis », sur yle.fi, Yle uutiset, (consulté le )

Liens externes
  • Portail de la Finlande
  • Portail des sciences des matériaux
Cet article est issu de Wikipedia. Le texte est sous licence Creative Commons - Attribution - Partage dans les Mêmes. Des conditions supplémentaires peuvent s'appliquer aux fichiers multimédias.