أكسدة حرارية

الأكسدة الحرارية [1] هي عملية صناعية في مجال تشطيب سطوح الرقائق السيليكونية تهدف إلى تشكيل غشاء رقيق من ثنائي أكسيد السيليكون، وذلك بإجبار مؤكسد على الانتشار في الرقاقة عند درجات حرارة مرتفعة.

أفران الأكسدة الحرارية في إحدى المختبرات

.

تجرى عملية الأكسدة الحرارية عند درجات حرارة تتراوح بين 800 °س إلى 1200 °س، ويمكن أن تجرى إما باستخدام بخار الماء مرتفع النقاوة أو باستخدام الأكسجين الجزيئي.

{\rm {Si+2H_{2}O\rightarrow SiO_{2}+2H_{2\ (g)}}}

{\rm {Si+O_{2}\rightarrow SiO_{2}\,}}

يمكن أن يستقرأ معدل نمو طبقة ثنائي أكسيد السيليكون على رقاقة السيليكون باستخدام نموذج ديل-غروف (Deal–Grove model).[2]

طالع أيضاً

المراجع

"قاموس المعاني"، مؤرشف من الأصل في 4 مايو 2021.
Liu, M.؛ وآخرون (2016)، "Two-dimensional modeling of the self-limiting oxidation in silicon and tungsten nanowires"، Theoretical and Applied Mechanics Letters، 6 (5): 195–199، doi:10.1016/j.taml.2016.08.002.

بوابة إلكترونيات
بوابة الكيمياء

This article is issued from Wikipedia. The text is licensed under Creative Commons - Attribution - Sharealike. Additional terms may apply for the media files.

[1] "قاموس المعاني"، مؤرشف من الأصل في 4 مايو 2021.

[slo-2] Liu, M.؛ وآخرون (2016)، "Two-dimensional modeling of the self-limiting oxidation in silicon and tungsten nanowires"، Theoretical and Applied Mechanics Letters، 6 (5): 195–199، doi:10.1016/j.taml.2016.08.002.